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Die Ferdinand-Braun-Institut gGmbH, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH) ist ein international führendes Forschungsinstitut auf den Gebieten der Diodenlaser, UV-LEDs und der Mikrowellenbauelemente.

Auf der Basis von III/V Halbleitern erforscht und realisiert es Komponenten und Systeme u.a. für Anwendungen in Kommunikation, Verkehrs- und Produktionstechnik, Medizin und Biotechnologie. Es verfügt über die gesamte Wertschöpfungskette vom Design bis zu lieferfertigen Systemen.

Zur weiteren Intensivierung unserer Arbeiten im Bereich der Atomlagenabscheidung (Atomic Layer Deposition, ALD) in der Abteilung Prozesstechnologie suchen wir eine*n engagierte*n Mitarbeiter*in.

(Kennziffer 24/21)

Ihre Aufgaben

An einer modernen Clusteranlage entwickeln Sie neue Prozesse auf der Basis der ALD für die am FBH etablierten Fertigungstechnologien für Halbleiterbauelemente. Sie präparieren und charakterisieren die ALD-Filme und schneidern die Eigenschaften maßgerecht auf die Anforderungen verschiedener III/V-Bauelemente zu. Ihre Ergebnisse kommunizieren Sie auf wissenschaftlichen Tagungen und nutzen sie für Ihre Promotion.

Ihr Profil

Sie haben ein wissenschaftliches Hochschulstudium in Materialwissenschaft, Physik oder einem angrenzenden natur- oder ingenieurwissenschaftlichen Studiengang abgeschlossen. Sie begeistern sich für technisch-wissenschaftliche Themen mit direktem Anwendungsbezug und verfügen über Kenntnisse in einem oder mehreren der folgenden Bereiche

  • Atomlagenabscheidung,
  • Fertigungsprozesse der Mikrotechnologie,
  • III/V-basierte Halbleiterbauelemente,
  • Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung
  • Charakterisierung dünner Schichten.

Sie können sich schnell in neue Aufgabenstellungen einarbeiten und Problemlösungen finden. Sie sind kommunikativ, haben Teamgeist und sind bereit, Verantwortung zu übernehmen. Sie besitzen technisches Verständnis für Labor- und Anlagentechnik, manuelles Geschick und haben Spaß an präparativer Arbeit. Ihre Kenntnisse der deutschen und englischen Sprache ermöglichen die teamübergreifende Arbeit in unserem Institut mit Mitarbeiter*innen vieler Nationalitäten. Die Eignung für die Arbeit in Reinsträumen wird vorausgesetzt.

Unser Angebot

Wir bieten eine anspruchsvolle interdisziplinäre Tätigkeit bei der Entwicklung und Fertigung von innovativen Halbleiterbauelementen und geben Ihnen die Möglichkeit zur Promotion. Es erwartet Sie ein kollegialer Umgang, ein familienfreundliches Umfeld und eine umfangreiche technische In­frastruktur in mehreren Reinsträumen, die beste Möglichkeiten zur kreativen Entfaltung bietet.

Anstellung, Vergütung und Sozialleistungen richten sich nach dem Tarifvertrag für den öffentlichen Dienst (TVöD Bund). Das FBH unterstützt aktiv die Vereinbarkeit von Familie und Beruf. Die Stelle kann zum nächstmöglichen Zeitpunkt besetzt werden und ist zunächst auf 2 Jahre befristet.

Ein besonderes Augenmerk kommt der Gleichstellung der Geschlechter zu. Das Institut ist bestrebt, den Anteil von Frauen in diesem Bereich zu erhöhen. Daher sind Bewerbungen von Frauen besonders willkommen. Schwerbehinderte erhalten bei gleicher Qualifizierung den Vorzug.

Haben wir Ihr Interesse geweckt? Dann freuen wir uns auf Ihre Online-Bewerbung. Dazu klicken Sie bitte auf „Online bewerben“ und übermitteln uns auf diesem Wege Ihre vollständigen Bewerbungsunterlagen bis zum 27.09.2021.

Falls Sie noch Fragen zur Bewerbung haben, wenden Sie sich bitte an Frau Nadine Kelm:
Tel. 030 6392 2691
nadine.kelm@fbh-berlin.de